芯片巨头美光：成功绕过了EUV光刻技术

本周美光宣布，采用全球先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证，并做好了量产准备。1β工艺可将能效提高约15％，存储密度提升35％以上，单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。

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/ d( q, K# X% y) D2 r一个值得关注的点是，美光称，1β绕过了EUV（极紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。这意味着相较于三星、SK海力士，美光需要更复杂的设计方案。毕竟，DRAM的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力，各公司目前通过不断缩小电路面积来进行竞争。

1 v: r+ Y0 X& F/ n0 H) E+ o: W/ f. ~同时，美光的产品最终在成本上或许也会更具比较优势。据悉，美光已经在LPDDR5X移动内存上率先应用1β工艺，还使用了第二代HKMG(高K金属栅极)工艺，最 高速率8.5Gbps(等效于8500MHz)。

美光是那个国家的？

是中国的企业吗？

中国只有在技术上突破新的工艺，弯道超车，才能打破西方在芯片上的封锁！[加油][加油][玫瑰]

什么时候能看到中国的半导体技术领先全球

咦，前段时间看到中国在搞什么石墨烯啦，绕过EUV啦，怎么没进展消息了

只有在技术上突破新的工艺，弯道超车，才能打破西方在芯片上的封锁。

也是美国的，话说这些突破就没中国的

普及一下：美光是全球最大的半导体储存及影像产品制造商之一，其主要产品包括DRAM、NAND闪存、NOR闪存、SSD固态硬盘和CMOS影像传感器，总公司（Micron Technology, Inc.）设于美国西北部爱达荷州的首府博伊西。

micron 美光。
% f/ x# x6 W- v9 c6 \EUV光刻机太贵了啦 美光不想花钱引入新设备。
毕竟存储半导体业务没那么非常赚钱。